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• 005 20230907134900.0

• 010 __ |a 978-7-5689-3393-3 |b 精装 |d CNY88.00

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• 200 1_ |a 电沉积铜和铜合金过程中的电化学行为 |A Dian Chen Ji Tong He Tong He Jin Guo Cheng Zhong De Dian Hua Xue Xing Wei |f 丁莉峰, 牛宇岚著

• 210 __ |a 重庆 |c 重庆大学出版社 |d 2023

• 215 __ |a 216页 |c 图 (部分彩图) |d 25cm

• 225 2_ |a 弘深·科学技术文库 |A Hong Shen·ke Xue Ji Shu Wen Ku

• 312 __ |a 英文并列题名取自封面

• 320 __ |a 有书目 (第166-188页)

• 330 __ |a 本书以“电沉积铜和铜合金过程中的电化学行为”科技重大专项课题为背景，针对企业在实际生产过程中的高物耗、高能耗、高污染和产品质量低等问题，通过电化学方法探究了电沉积体系的变化规律及作用机理，最终实现调控电化学行为的目的，为我国电沉积体系的工业化生产提供理论指导。

• 410 _0 |1 2001 |a 弘深·科学技术文库

• 510 1_ |a Electrochemical behaviour in the electrodeposition of copper and copper alloys |z eng

• 606 0_ |a 铜合金 |A Tong He Jin |x 电沉积 |x 电化学 |x 研究

• 690 __ |a TG146.1 |v 5

• 701 _0 |a 丁莉峰 |A Ding Li Feng |4 著

• 701 _0 |a 牛宇岚 |A Niu Yu Lan |4 著

• 801 _0 |a CN |b ZPHC |c 20230614

• 905 __ |a ZPHC |d TG146.1/2