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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:4

题名/责任者:
应用光学/张以谟主编 张以谟, 张红霞, 贾大功修订
版本说明:
第5版
出版发行项:
北京:电子工业出版社,2021
ISBN及定价:
978-7-121-41071-0/CNY135.90
载体形态项:
x, 602页:图;26cm
丛编项:
光电&仪器类专业教材
个人责任者:
张以谟 主编
个人次要责任者:
张红霞 修订
个人次要责任者:
贾大功 修订
学科主题:
应用光学-高等学校-教材
中图法分类号:
O439
提要文摘附注:
本书分为几何光学、像差理论、典型光学系统和光学系统设计四部分, 各部分均反映了光学与光电子学的进展和光学系统设计的新发展。其中, 几何光学和像差理论详细讲述了光学系统设计基本理论; 典型光学系统包括眼睛, 显微和望远光学系统, 摄影和投影光学系统, 自由曲面及其在光学系统中的应用, 以及特殊光学系统, 包含了当前最新的光学系统, 例如全息术补偿像差、3D打印光学系统、3D显示光学系统、太赫兹光学系统、折衍混合光学系统、共形自由曲面光学系统、复眼仿生光学系统和自适应光学系统等; 光学设计部分包括光学系统初始结构求解、像质评价和像差平衡, 并辅以光学设计实例。
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 所在方位 书刊状态 还书位置
O439/4 796440 2021  奉化馆流通区(可借)     定位 可借 奉化馆流通区(可借)
O439/4 793731 2021  鄞州馆流通区(可借)     定位 可借 鄞州馆流通区(可借)
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