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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:5

题名/责任者:
电沉积铜和铜合金过程中的电化学行为/丁莉峰, 牛宇岚著
出版发行项:
重庆:重庆大学出版社,2023
ISBN及定价:
978-7-5689-3393-3 精装/CNY88.00
载体形态项:
216页:图 (部分彩图);25cm
并列正题名:
Electrochemical behaviour in the electrodeposition of copper and copper alloys
丛编项:
弘深·科学技术文库
个人责任者:
丁莉峰
个人责任者:
牛宇岚
学科主题:
铜合金-电沉积-电化学-研究
中图法分类号:
TG146.1
相关题名附注:
英文并列题名取自封面
书目附注:
有书目 (第166-188页)
提要文摘附注:
本书以“电沉积铜和铜合金过程中的电化学行为”科技重大专项课题为背景,针对企业在实际生产过程中的高物耗、高能耗、高污染和产品质量低等问题,通过电化学方法探究了电沉积体系的变化规律及作用机理,最终实现调控电化学行为的目的,为我国电沉积体系的工业化生产提供理论指导。
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 所在方位 书刊状态 还书位置
TG146.1/2 760361 2023  奉化馆流通区(可借)     定位 可借 奉化馆流通区(可借)
TG146.1/2 760362 2023  奉化馆流通区(可借)     定位 可借 奉化馆流通区(可借)
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