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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:2

题名/责任者:
宽禁带半导体氧化镓:结构、制备与性能/陶绪堂 ... [等] 编著
出版发行项:
西安:西安电子科技大学出版社,2022
ISBN及定价:
978-7-5606-6444-6 精装/CNY128.00
载体形态项:
316页, [4] 页图版:图 (部分彩图);25cm
并列正题名:
Wide bandgap gallium oxide semiconductor:structure, growth and physical properties
丛编项:
宽禁带半导体前沿丛书
个人责任者:
陶绪堂 编著
个人责任者:
穆文祥 编著
个人责任者:
贾志泰 编著
学科主题:
禁带-氧化镓-半导体材料
中图法分类号:
TN304.2
一般附注:
国家出版基金项目
题名责任附注:
编著者还有: 穆文祥, 贾志泰, 叶建东
书目附注:
有书目
提要文摘附注:
本书从氧化镓半导体材料的发展历程、材料特性、材料制备原理与技术及电学性质调控等几个方面做了介绍,重点梳理了作者及国内外同行在单晶制备方法、衬底加工、薄膜外延方面的研究成果;阐述了获得高质量体块单晶及薄膜的思路和方法,并对氧化镓的发展进行了综述和展望。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 所在方位 书刊状态 还书位置
TN304.2/2 767689 2022  奉化馆流通区(可借)     定位 可借 奉化馆流通区(可借)
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