MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：11
- 题名/责任者:
- 磁共振成像技术与应用/主编汤光宇, 李懋
- 出版发行项:
- 上海:上海科学技术出版社,2023
- ISBN及定价:
- 978-7-5478-5789-2 精装/CNY288.00
- 载体形态项:
- 480页:图 (部分彩图);30cm
- 个人责任者:
- 汤光宇 主编
- 个人责任者:
- 李懋 主编
- 学科主题:
- 核磁共振成象
- 中图法分类号:
- R445.2
- 一般附注:
- 世纪出版
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书共分16章，内容涵盖MR成像原理、各种成像技术和MRI对比剂，重点介绍一些最新成像技术。
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