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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:6

题名/责任者:
光机约束方程原理及其应用/(美)爱尔森·E. 汉瑟维著 连华东译
出版发行项:
北京:国防工业出版社,2021
ISBN及定价:
978-7-118-12221-3 精装/CNY79.00
载体形态项:
11,131页:图;24cm
并列正题名:
Optomechanical constraint equations: theory and applications
个人责任者:
(美) 汉瑟维 (Hatheway, Alson E.) 著
个人次要责任者:
连华东
学科主题:
光学系统-系统设计
中图法分类号:
TN202
一般附注:
装备科技译著出版基金
提要文摘附注:
本书主要内容包括光学函数基础知识、光学影响函数、光机约束方程原理、光机约束方程在各种光学元件中的应用、光机约束方程计算方法、分析验证方法等,另外,书中还给出了光机约束原理在具体光机系统设计实践中的应用案例,诸如光学成像相关器、光纤扩频编码器、红外成像仪等。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 所在方位 书刊状态 还书位置
TN202/3 723913 2021  奉化馆流通区(可借)     定位 可借 奉化馆流通区(可借)
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