MARC状态：待编 文献类型：中文图书 浏览次数：19
- 题名/责任者:
- 氧化铝衬底上金刚石的厚膜生长及其微电子学应用研究/方志军著
- 出版发行项:
- 上海:上海大学出版社,2006
- ISBN及定价:
- 7-81058-898-2/CNY260.00(全26册)
- 载体形态项:
- 126页;21cm
- 丛编项:
- 2003年上海大学博士学位论文;23
- 个人责任者:
- 方志军 著
- 学科主题:
- 金刚石-薄膜-复合材料
- 学科主题:
- 氧化铝陶瓷-复合材料
- 中图法分类号:
- TB34
- 提要文摘附注:
- 本书分别采用MPCVD、HFCVD方法在氧化铝陶瓷基片上沉积金刚石膜。在沉积金刚石膜之前，首次使用对氧化铝衬底进行碳离子注入的方法，以缓解薄膜与衬底间的应力。通过X射线衍射(XRD)、俄歇电子能谱(AES)、显微压痕及扫描电子显微镜(SEM)等手段，对离子注入层中碳元素的分布及残余应力随注入条件的变化进行了研究。
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