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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:13

题名/责任者:
分子印迹技术及应用/谭天伟编著
出版发行项:
北京:化学工业出版社,2010
ISBN及定价:
978-7-122-08005-9 精装/CNY68.00
载体形态项:
305页:图;27cm
丛编项:
超分子科学丛书
个人责任者:
谭天伟 编著
学科主题:
高聚物-制备-技术-应用
学科主题:
高聚物
中图法分类号:
O63
一般附注:
“十一五”国家重点图书 国家科学技术学术著作出版基金资助出版
提要文摘附注:
本书对分子印迹的原理、应用和最新研究进展进行了全面系统的介绍和阐述。内容包括分子印迹技术的基本概念、作用机制与研究模型、分子印迹的研究方法、分子分离技术、表面分子印迹等。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 所在方位 书刊状态 还书位置
O63/50 378287 2010 - 奉化馆密集库(可借)     定位 可借 奉化馆密集库(可借)
O63/50 378289 2010 - 奉化馆密集库(可借)     定位 可借 奉化馆密集库(可借)
O63/50 378288 2010 - 鄞州馆流通区(可借)     定位 可借 鄞州馆流通区(可借)
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